Nouvel élan pour la loi de Moore

Une nouvelle technique de fabrication de puces en 22 nm apparue l'an dernier redonnait de l'air à la loi de Moore. Et maintenant le MIT a mis au point une nouvelle technique de lithographie optique qui rendrait possible la fabrication de puces en 12 nm, laissant augurer de processeurs plus petits et plus denses encore pour l'avenir.

Une équipe du labo de nanotechnologie spatiale a réussi à créer des galettes de semi-conducteurs avec des détails de 25 nm grâce à une technique innovante recourant à un laser à interférence. Et cette technique permettrait facilement de descendre à 12 nm. De ce fait, la vénérable vieille loi du siècle dernier a encore de beaux jours devant elle. [EETimes]

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